光学光刻和极紫外光刻

定　　价：195 元

• 作者：[美]安迪·爱德曼 著，高伟民 徐东波 诸波尔 译
• 出版时间：2022/10/1
• ISBN：9787547857205
• 出 版 社：上海科学技术出版社

• 中图法分类：TN 
• 版次：1

内容简介

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。